這款薄膜厚度均勻性測量儀采用光譜反射計技術(shù)測量整個樣品薄膜面積的薄膜厚度和薄膜折射率等參數(shù)，獲得整面薄膜厚度分布和薄膜厚度均勻性參數(shù)。
這款薄膜厚度均勻性測量儀具有較長工作距離，工作距離可調(diào)，超大樣品臺，可選光源等特點(diǎn)。
薄膜厚度均勻性測量儀特點(diǎn)
易于安裝
軟件基于Windows系統(tǒng)，方便使用
*光學(xué)設(shè)計，良好系統(tǒng)表現(xiàn)
陣列光譜探測器保證快速測量
測量薄膜厚度和折射率高達(dá)5層
可測量反射，透射和吸收光譜
可用于實(shí)時在線的薄膜厚度和折射率測量
具有齊全的材料光譜舍數(shù)據(jù)庫
可升級到顯微分光光度計
適合不同襯底和不同薄膜厚度測量
薄膜厚度均勻性測量儀參數(shù)
波長范圍：250-1050nm
光點(diǎn)大?。?00um - 5mm
樣品大?。?00mm 直徑
襯底厚度： 高達(dá)50um
測量薄膜厚度范圍： 10nm -50um
重復(fù)定位精度：1um
測量時間：最小2ms
精度：0.5%
重復(fù)精度 lt;1A
薄膜厚度均勻性測量儀應(yīng)用
半導(dǎo)體制造
液晶顯示屏測量
刑偵
生物膜測量
礦石地質(zhì)分析
制藥醫(yī)學(xué)分析
光學(xué)鍍膜測量
功能薄膜MEMS測量
太陽能電池薄膜測量
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