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批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備

產(chǎn)品二維碼
參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號：
  • 品牌：
  • 產(chǎn)品類別：天平
  • 所在地：
  • 信息完整度：
  • 樣本：
  • 更新時(shí)間：2025-02-09 12:51:00
  • 瀏覽次數(shù)：9

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其他

  • 經(jīng)營模式：其他
  • 商鋪產(chǎn)品：387條
  • 所在地區(qū)：
  • 注冊時(shí)間：2015-05-12
  • 最近登錄：2022-10-24
  • 聯(lián)系人：
產(chǎn)品簡介

簡要描述：批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。

詳情介紹

批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。

此系統(tǒng)為專對派瑞林(Parylene)所設(shè)計(jì)，其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性，並批量式生產(chǎn)。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性?？蓱?yīng)用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。

批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域腔體

  • 醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜

  • 封裝、絕緣

  • 防刮顯示屏

  • 客製化的腔體尺寸，取決於基板尺寸和其應(yīng)用

  • 通過使用水冷、水熱系統(tǒng)或加熱器來控制腔體溫度


配置和優(yōu)點(diǎn)選件

  • 客製化的基板

  • 多載片

  • 優(yōu)異的薄膜均勻性小於+-3%

  • 精準(zhǔn)流量控制器，氣體分佈高度均勻

  • 使用電容式藕荷電漿(CCP)





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